首页 > 事件详情

芯源微(688037):化学清洗、划片机、键合机新品突破

09-12 00:00 190

机构:申万宏源研究
研究员:杨海晏/刘建伟/李天奇

  投资要点:
  公告:2024 中报营收6.94 亿元,yoy -0.29%,归母净利润7613.88 万元,yoy -43.88%;扣非归母净利润3578 万元,yoy -65.5%。24H1 研发投入1.17 亿元,yoy +52%。2024H1毛利率40.2%,yoy -3.2pct,归母净利率10.98%。
  24Q2 营收4.5 亿元,yoy +10.3%,环比+84%;归母净利润0.6 亿元,yoy -13.7%。
  据Global Market Monitor,全球前道涂胶显影设备销售额由2013 年的14.07 亿美元增长到2020 年19.05 亿美元,2022 年超过25 亿美元;涂胶显影设备领域,日本TEL一家独大,全球市场份额接近87%,日本对6 大类半导体设备出口管制的政策已于23 年7 月23 日实施,其中包括先进制程领域涂胶显影相关设备。芯源微作为国内领先的涂胶显影设备生产企业,有望打破垄断格局。2024H1,新签订单12.19 亿元,yoy +30%,在手订单超过26 亿元,创历史新高。
  前道涂胶显影设备完成28nm 及以上工艺覆盖,下一代高产能架构研发顺利。前道涂胶显影设备全面覆盖I-line、KrF、ArF dry、ArF 浸没式等多种型号,也适用包括SOC、SOH、SOD 等其他旋涂类应用。2024H1 公司新一代超高产能架构涂胶显影机FTEX 研发取得良好进展,机台采用六层对称架构,中间布局高效的晶圆传输模组作为连接枢纽,并设计高效冷盘塔连接模块,在调度上应用多层并行进片回片模式,为整机产能提升奠定更先进的架构基础,可匹配未来更先进的光刻机产能提升需求。
  半导体清洗设备:物理清洗机Baseline,化学清洗突破客户验证。全球半导体清洗设备市场将呈逐年增长的趋势,根据 SEMI 数据,中国大区2023 年市场需求8.26 亿美元,占全球比重约27%。芯源微物理清洗机继续保持行业龙头地位,化学清洗机新品2024 年初发布,据中报,机台已在司内完成多家主要客户的wafer demo 测试,工艺水平表现优秀,获得了下游客户的高度认可,公司高温SPM 机台获得了国内领先逻辑客户的验证性订单。
  维持盈利预测,维持“买入”评级。2024 中报符合预期。维持2024-2026 年归母净利润预测2.88/3.73/4.40 亿元。2025PE 为31X,维持“买入”评级。
  风险提示:晶圆厂扩产节奏低于预期;新设备验证不达预期等;原材料采购周期延长风险。